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课程目录
1.1 薄膜的定义
1.2 薄膜的制备方法及应用
2.1 真空
2.2 稀薄气体的基本性质
2.3 真空的获得
2.4 真空的测量
3.1 蒸发的基本概念
3.2 蒸发的膜厚分布
3.3 蒸发方法简介
4.1 溅射与等离子体
4.2 溅射特性
4.3 溅射过程
4.4 射频溅射与磁控溅射
5.1 CVD的化学反应类型
5.2 CVD的化学反应法则
5.3 CVD装置及类型
6.1 溶胶凝胶法和LB膜
6.2 阳极氧化、电镀、化学镀
7.1 薄膜的生长过程
7.2 薄膜成核理论
8.1 薄膜厚度测试
8.2 薄膜形貌及结构表征
1.2 薄膜的制备方法及应用
2.1 真空
2.2 稀薄气体的基本性质
2.3 真空的获得
2.4 真空的测量
3.1 蒸发的基本概念
3.2 蒸发的膜厚分布
3.3 蒸发方法简介
4.1 溅射与等离子体
4.2 溅射特性
4.3 溅射过程
4.4 射频溅射与磁控溅射
5.1 CVD的化学反应类型
5.2 CVD的化学反应法则
5.3 CVD装置及类型
6.1 溶胶凝胶法和LB膜
6.2 阳极氧化、电镀、化学镀
7.1 薄膜的生长过程
7.2 薄膜成核理论
8.1 薄膜厚度测试
8.2 薄膜形貌及结构表征
课程详情
《薄膜物理与技术》的开设旨在引导学生了解电子薄膜技术的发展概况，理解真空技术的相关知识，掌握薄膜沉积的技术体系以及薄膜制备的多种技术方法，能够在薄膜沉积中综合考虑工艺参数对薄膜附着力、厚度均匀性、结构以及缺陷的影响，并初步掌握薄膜结构表征的方法。
《薄膜物理与技术》的开设旨在引导学生了解电子薄膜技术的发展概况，理解真空技术的相关知识，掌握薄膜沉积的技术体系以及薄膜制备的多种技术方法，能够在薄膜沉积中综合考虑工艺参数对薄膜附着力、厚度均匀性、结构以及缺陷的影响，并初步掌握薄膜结构表征的方法。
《薄膜物理与技术》的开设旨在引导学生了解电子薄膜技术的发展概况，理解真空技术的相关知识，掌握薄膜沉积的技术体系以及薄膜制备的多种技术方法，能够在薄膜沉积中综合考虑工艺参数对薄膜附着力、厚度均匀性、结构以及缺陷的影响，并初步掌握薄膜结构表征的方法。
